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희토류 원소는 플랫폼을 마이크로라싱 안정적 다중 대역을 놓습니다

2022-09-14

에 대한 최신 회사 뉴스 희토류 원소는 플랫폼을 마이크로라싱 안정적 다중 대역을 놓습니다

무한, 중국, 2022년 9월 9일 - huazhong 과학 기술 대학교 (HUST)에 있는 팀에 의한 최근의 시위는 희귀 토양 (RE) 요소에 의해 안정적 다중 대역 레이징의 가능성을 강조합니다. 작업에서, 연구팀은 최고 본질적 q 계수가 108을 초과하면서 RE-도핑된 미세구멍을 제조하기 위해 중합체 보조 열불순물주입을 사용했습니다. 도핑 공정은 어떠한 명백한 이온 밀집 또는 산란 손실을 도입하지 않았습니다. 최고 본질적 q 계수는 과정을 저 소비 전력을 요구하는 달성 레이징과 더욱 비선형 현상을 위한 자연적 플랫폼으로 만듭니다.

 

레이저 응용을 위한 장점은 제쳐놓고, 최고-Q 도핑된 극소 공동은 또한 초고 정밀 감지와 광 메모리와 공동 문제 가벼운 상호작용에 대한 조사를 위한 플랫폼을 제공할 수 있습니다.

 

다수 레이저 광선을 쬐는 밴드와 마이크로레이저는 전체 칼라 디스플레이와 광통신과 컴퓨팅과 같은 다양한 응용 프로그램의 중요한 구성 요소입니다. RE 요소는 광파 밴드의 광범위에 걸쳐 출량을 위해 풍부하 수명이 긴 중간 에너지 수준과 필요한 내부 배열 변화를 제공합니다.

에 대한 최신 회사 뉴스 희토류 원소는 플랫폼을 마이크로라싱 안정적 다중 대역을 놓습니다  0

더 낮은 빈도에, 저속기어로 바뀌는 것을 통하여 광자를 펌핑함으로써 중간 적외선광에 디유브 (UV)를 발생시키는 것은 최선입니다 - 그리고 증가 에너지에, 고차 변환. 고차 변환이 더 좋은 침투 깊이와 더 적은 이온화 손상을 포함하는 이점을 제공할지라도, 그것은 하향 변속 보다 일반적으로 더 힘듭니다. 고차 변환과 결합하는 하향 변속은 최대 전위를 위한 방사 파장 범위를 확대할 수 있습니다.

 

사용하는 것 이후 고차 변환을 위한 REs는 혹독한 위상 조화 조건 또는 높은 펌프 밀도에 대한 필요성을 제거합니다, 본질적 q 계수를 떨어뜨리지 않고 최고-Q 극소 공동 안으로 RE 요소에게 도핑함으로써 다중 대역 레이저를 건설하는 것은 가능한지 연구원들이 물었습니다.

 

HUST 연구원들은 실온에 레이저 광선을 발하여 동시 자외선과 상품과 근적외선 CW를 증명했습니다. 일은 초고 정밀 감지와 광 메모리와 공동 문제 가벼운 상호작용에 대한 조사를 지원합니다. B. 장, 기타, doi 10.1117/1 제공.AP.4.4.046003.

 

HUST 연구원들은 실온에 동시 자외선과 상품과 근적외선 연속파 레이징을 증명했습니다. 일은 초고 정밀 감지와 광 메모리와 공동 문제 가벼운 상호작용에 대한 조사를 지원합니다. B. 장 기타, doi 10.1117/1 제공.AP.4.4.046003.

 

고차 업 변환 레이저를 위한 연구는 이득 소재와 공진 공동을 위한 열 손상을 줄이는 것을 목표로 하는 극저온 환경에서 일반적으로 펄스용 레이저 펌프를 사용합니다.

 

최근의 시위에서, HUST 팀은 실온에 있는 RE 요소의 UV와 보라색 연속파 (CW) 고차 변환 레이징을 달성했습니다.

 

팀은 에르븀과 이테르븀으로 극소 공동을 도핑했고, CW 975 nm 레이저로 그것을 펌핑했습니다. 결과로 생기는 레이저는, 눈에 보인 UV를 커버하, 약 1170 nm의 파장 범위와 근적외선 (NIR) 밴드에 미쳤습니다. 모든 발진 역치가 1밀리와트 이하 수준에 있었다고 팀은 추정했습니다. 마이크로레이저는 190 분 동안 좋은 강도 안정성을 나타냈으며, 그것이 그들을 응용에 적합하게 합니다.

 

덧붙여, 다른 RE 요소 - 툴륨과 홀뮴과 네오디뮴과 같이 - 탄력적 펌프 계획과 풍부한 레이징 파장을 고려할 수 있습니다.

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